硫酸ロジウムめっき

特徴

H-8

  1. 1圧縮応力のめっき被膜を実現
  2. 2厚付けが可能なためMEMS用途で採用

F-20

  1. 110µm程度までの厚付けが可能
  2. 2比抵抗10μΩ・cm以下を実現

物性データ

  H-8 F-20
限界膜厚 μm ~100 ~10
内部応力 MPa 圧縮応力 引張応力
比抵抗 μΩ・cm 65 9.2
硬度 Hv 930 1020

環境対応

  • アレルギー反応が出にくい金属であるため医療分野で使用
  • 貴金属であるため回収が可能
  • 毒物は不使用

ロジウムめっき膜の特徴

  1. 1低抵抗
  2. 2Snと反応しにくい
  3. 3耐摩耗

用途

  • 電子部品や接点部品(プローブカード,プローブピン,リードスイッチ)
  • 電鋳による精密機械部品(MEMS)
  • 光学部品(反射板)
  • 工業部品
  • 医療分野(マンモグラフィー用フィルター,X線不透過マーカー)

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