硫酸ロジウムめっき
特徴
H-8
- 1圧縮応力のめっき被膜を実現
- 2厚付けが可能なためMEMS用途で採用
F-20
- 110µm程度までの厚付けが可能
- 2比抵抗10μΩ・cm以下を実現
物性データ
H-8 | F-20 | ||
---|---|---|---|
限界膜厚 | μm | ~100 | ~10 |
内部応力 | MPa | 圧縮応力 | 引張応力 |
比抵抗 | μΩ・cm | 65 | 9.2 |
硬度 | Hv | 930 | 1020 |
環境対応
- アレルギー反応が出にくい金属であるため医療分野で使用
- 貴金属であるため回収が可能
- 毒物は不使用
ロジウムめっき膜の特徴
- 1低抵抗
- 2Snと反応しにくい
- 3耐摩耗
用途
- 電子部品や接点部品(プローブカード,プローブピン,リードスイッチ)
- 電鋳による精密機械部品(MEMS)
- 光学部品(反射板)
- 工業部品
- 医療分野(マンモグラフィー用フィルター,X線不透過マーカー)
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